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GB/T 15873-1995 半导体设施接口技术文件编写导则

时间:2024-05-12 07:42:30 来源: 标准资料网 作者:标准资料网 阅读:8907
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基本信息
标准名称:半导体设施接口技术文件编写导则
英文名称:Directives for drafting semiconductor facilities interface specification
中标分类: 电子元器件与信息技术 >> 电子工业生产设备 >> 加工专用设备
ICS分类: 电子学 >> 电子电信设备用机电零部件 >> 插头和插座装置、连接器
发布部门:国家技术监督局
发布日期:1995-01-02
实施日期:1996-08-01
首发日期:1995-12-22
作废日期:1900-01-01
主管部门:信息产业部(电子)
归口单位:信息产业部(电子)
起草单位:中国华晶电子集团公司
出版社:中国标准出版社
出版日期:1900-01-01
页数:平装16开, 页数:15, 字数:26千字
适用范围

本标准规定了半导体设施接口技术文件编写的基本要求和格式。本标准适用于半导体设施的设计、施工、供应、管理、培训及使用。

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所属分类: 电子元器件与信息技术 电子工业生产设备 加工专用设备 电子学 电子电信设备用机电零部件 插头和插座装置 连接器
【英文标准名称】:Spotwelding.Electrodeback-upsandclamps.
【原文标准名称】:点焊.电极垫板和夹子
【标准号】:NFA82-130-1992
【标准状态】:现行
【国别】:法国
【发布日期】:1992-09-01
【实施或试行日期】:1992-09-05
【发布单位】:法国标准化协会(AFNOR)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:焊接设备;铜;电气工程;点焊;焊接;材料;额定值;作标记;电阻焊接;支承铜棒;加压焊;电阻焊设备;电极;电阻焊电极;名称与符号;尺寸;规范;焊接工程;电焊条;电焊;夹件
【英文主题词】:
【摘要】:
【中国标准分类号】:J64
【国际标准分类号】:25_160_20
【页数】:6P;A4
【正文语种】:其他


【英文标准名称】:StandardGuideforMeasuringWidthsofInterfacesinSputterDepthProfilingUsingSIMS
【原文标准名称】:用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南
【标准号】:ASTME1438-2006
【标准状态】:现行
【国别】:
【发布日期】:2006
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:E42.06
【标准类型】:(Guide)
【标准水平】:()
【中文主题词】:半导体工艺;光谱测定法
【英文主题词】:
【摘要】:Althoughitwouldbedesirabletomeasuretheextentofprofiledistortioninanyunknownsamplebyusingastandardsampleandthisguide,measurementsofinterfacewidth(profiledistortion)canbeuniquetoeverysamplecomposition(1,2,3).3Thisguide,thatdescribesamethodthatdeterminestheuniquewidthofaparticularinterfaceforthechosensetofoperatingconditions.Itisprimarilyintendedtoprovideamethodforcheckingonproperorconsistent,orboth,instrumentperformance.Periodicanalysisofthesamesamplefollowedbyameasurementoftheinterfacewidth,inaccordancewiththisguide,willprovidethesechecks.Theproceduredescribedinthisguideisadaptabletoanylayeredsamplewithaninterfacebetweenlayersinwhichanominatedelementispresentinonelayerandabsentfromtheother.IthasbeenshownthatforSIMSinparticular(4,5)andforsurfaceanalysisingeneral(6,7),onlyrigorouscalibrationmethodscandetermineaccurateinterfacewidths.Suchproceduresareprohibitivelytime-consuming.Thereforetheinterfacewidthmeasurementobtainedusingtheproceduredescribedinthisguidemaycontainsignificantsystematicerror(8).Therefore,thismeasureofinterfacewidthmayhavenorelationtosimilarmeasuresmadewithothermethods.However,thisdoesnotdiminishitsuseasacheckonproperorconsistentinstrumentperformance,orboth.1.1ThisguideprovidestheSIMSanalystwithamethodfordeterminingthewidthofinterfacesfromSIMSsputteringdataobtainedfromanalysesoflayeredspecimens.Thisguidedoesnotapplytodataobtainedfromanalysesofspecimenswiththinmarkersorspecimenswithoutinterfacessuchasion-implantedspecimens.1.2Thisguidedoesnotdescribemethodsfortheoptimizationofinterfacewidthortheoptimizationofdepthresolution.Thisstandarddoesnotpurporttoaddressallofthesafetyconcerns,ifany,associatedwithitsuse.Itistheresponsibilityoftheuserofthisstandardtoestablishappropriatesafetyandhealthpracticesanddeterminetheapplicabilityofregulatorylimitationspriortouse.
【中国标准分类号】:A43;H80
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:2P.;A4
【正文语种】: